電容析去離子系統(tǒng) 

概述: MCDI技術(shù)革新 1、 現(xiàn)有電容吸附法沒有離子膜,水流直接沖刷碳電極,碳顆粒掉落的情況會(huì)持續(xù)發(fā)生;而MCDI由于膜電極中離子膜的遮擋和包覆,水流不直接沖刷碳
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MCDI技術(shù)革新

1、       現(xiàn)有電容吸附法沒有離子膜,水流直接沖刷碳電極,碳顆粒掉落的情況會(huì)持續(xù)發(fā)生;而MCDI由于膜電極中離子膜的遮擋和包覆,水流不直接沖刷碳電極,而是從離子膜之間流過,加上我們特殊的碳電極加工方法,長期使用造成碳電極沖刷掉落的情況不會(huì)出現(xiàn)。

2、       當(dāng)反接電極時(shí),因?yàn)殡x子隔膜的作用,使得從電極上脫附的離子,只能回到溶液或水中,無法吸附到對(duì)面電極上,從而使電極得到充分的清洗,再開始下一次吸附,提高了離子去除率和裝置的運(yùn)行效率;傳統(tǒng)的電容吸附去離子技術(shù)由于沒有離子膜隔離,導(dǎo)致脫附過程中離子再次吸附到對(duì)面極板上,嚴(yán)重影響脫附效果,導(dǎo)致處理效率降低。

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