金屬表面處理劑LSN-2006M
概述: 【簡(jiǎn)介】 LSN-2006M是硫酸鹽型的鎳電鍍工藝,其鍍層具有應(yīng)力低、半光亮和延展性好特點(diǎn),適合于作貴金屬和非貴金屬的電鍍的底層。該工藝是專(zhuān)門(mén)為高速電鍍?cè)O(shè)備而設(shè)計(jì)的,采用不溶性陽(yáng)極。它主要用于
【簡(jiǎn)介】
LSN-2006M是硫酸鹽型的鎳電鍍工藝,其鍍層具有應(yīng)力低、半光亮和延展性好特點(diǎn),適合于作貴金屬和非貴金屬的電鍍的底層。該工藝是專(zhuān)門(mén)為高速電鍍?cè)O(shè)備而設(shè)計(jì)的,采用不溶性陽(yáng)極。它主要用于印制線路、接插件、半導(dǎo)體、固體電路和其它高可靠性電子元器件的制造。
【設(shè)備】
該工藝所采用的設(shè)備將是高度專(zhuān)門(mén)化的,可參閱下列信息:
鍍槽 用橡膠、聚氯乙烯、聚二氯乙烯、聚丙烯和聚乙烯作襯里。襯里用20g/L 的氫氧化鈉溶液在50℃下浸泡4~6小時(shí),然后用清水漂洗;再用5~10%V/V的硫酸溶液于60℃下浸泡2~4小時(shí);再用清水充分漂洗,再晾干。堿性浸洗液中不得含有磷酸鹽。
整流器 整流器直流輸出應(yīng)滿足電鍍要求,應(yīng)備有電壓表、安培表和無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)以精確調(diào)節(jié)電流值,推薦使用安培分鐘計(jì)
過(guò)濾 溶液應(yīng)連續(xù)過(guò)濾,以維護(hù)溶液澄清,過(guò)濾機(jī)的能力滿足每小時(shí)至少循環(huán)一次,泵和過(guò)濾芯的材料用惰性材料,所有管子的接頭應(yīng)用尼龍加強(qiáng)的聚氯乙烯,不能用不銹鋼
加熱器 加熱器應(yīng)配有恒溫控制裝置,以保持操作溫度,加熱器應(yīng)用玻璃或石英制作,不用不銹鋼加熱器
陽(yáng)極 只能用鉑或鍍鉑鈦?zhàn)鲫?yáng)極
【操作參數(shù)】
項(xiàng) 目 范 圍 最佳值
金屬鎳 g/L 75~125 100
硫酸鎳 g/L 336~560 450
硼酸 g/L 38.0~45.0 38.0
LSN-2006M mL/L 12~24 18.0
補(bǔ)充劑
pH值 3.0~4.0 3.5
溫度 ℃ 52~57 55
電流密度 A/dm2 5~50 15
陰極效率 約65%
攪拌 強(qiáng)烈(不用空氣攪拌)
【開(kāi)槽步驟】
清洗干凈所有與槽液接觸的部件,把LSN-2006M溶液注入或泵進(jìn)槽內(nèi),在金屬補(bǔ)充系統(tǒng)正常的情況下,溫度升到操作值時(shí),電鍍就可以開(kāi)始。
由于高速自動(dòng)電鍍?cè)O(shè)備的設(shè)計(jì)有一個(gè)很寬的變化范圍,所以對(duì)一個(gè)給定設(shè)備LSN-2006M操作參數(shù)在允許范圍內(nèi)可以作適當(dāng)?shù)淖兓,LSN-2006M溶液準(zhǔn)備好后,即可滿足現(xiàn)有設(shè)備的一般要求。
【工藝維護(hù)】
LSN-2006M溶液的工藝控制是借助常規(guī)分析鎳、硼酸的含量以及添加除應(yīng)力劑來(lái)實(shí)現(xiàn)的。在電鍍期間這些材料的濃度因不斷的消耗或者由于帶出而減少。
為了改善溶液的導(dǎo)電性,采用比較高的電流密度,溶液的pH值應(yīng)維持在3.0~4.0之間。pH值過(guò)高,鍍層延展性低;pH值過(guò)低,電流效率低。pH為3.0時(shí),效果最好,用碳酸鎳提高pH值,用20%V/V硫酸降低pH值。
【分析方法】
電鍍液中金屬鎳靠添加試劑級(jí)的硫酸鎳晶體進(jìn)行補(bǔ)充,為了防止工件表面在高電流密度區(qū)燒焦,鎳的濃度應(yīng)維持在75~125g/L,硫酸鎳中含22~23%的鎳金屬,可以使用凈化的硫酸鎳濃縮液,但會(huì)引起鍍液體積增加,必須倒出部分舊溶液。
必須使用試劑純的化學(xué)藥品
一) 碳酸鎳
碳酸鎳不可直接加入到工作液中,否則將引起鍍層粗糙和過(guò)濾機(jī)堵塞。將裝有金屬鹽的陽(yáng)極袋吊在儲(chǔ)備槽流動(dòng)的液體里,以一定的速度往下溶解。
二) 硼酸
硼酸可防止PH值大幅度變化,它也降低了高電流密度區(qū)工件燒焦的可能,為了得到最好結(jié)果,其濃度應(yīng)維持在38.0~45.0g/L之間。濃度過(guò)高,在正常操作溫度下,硼酸易結(jié)晶析出;過(guò)低時(shí),高電流密度區(qū)工件易燒焦。
三) 應(yīng)力消除劑
應(yīng)力消除劑的濃度用LSN-2006M補(bǔ)充劑來(lái)維護(hù),其中也含整平劑。既能降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力,也使鍍層光亮和有延展性,光亮性是此物質(zhì)的副效應(yīng)。LSN-2006M R的消耗量是1.0mL/Ah, 在某些電鍍條件下,可能要多加些應(yīng)力消除劑。
四) 潤(rùn)濕劑
LSN-2006M還有潤(rùn)濕劑,當(dāng)需要使用潤(rùn)濕劑,往往表明鍍液已受污染。
特別聲明
此說(shuō)明書(shū)內(nèi)所有提議或關(guān)于本公司產(chǎn)品的建議,是以本公司信賴的實(shí)驗(yàn)及資料為基礎(chǔ)。因不能控制其他從業(yè)者的實(shí)際操作,故本公司不能保證及負(fù)責(zé)任何不良后果。此說(shuō)明書(shū)內(nèi)的所有資料也不能用為侵犯版權(quán)的證據(jù)。
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