固定式壓力容器生產(chǎn)TS
概述:固定式壓力容器生產(chǎn)TS
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74 (2)工件磁化過程中,短少平面方向與磁力線筆直時(shí)發(fā)作的漏磁場(chǎng)最強(qiáng),施加磁粉后構(gòu)成的磁痕明顯,跟著其夾角的增大,漏磁場(chǎng)強(qiáng)度隨之削弱,因此僅一個(gè)方向磁化會(huì)構(gòu)成漏檢。一同,磁極端面與受檢表面接觸不良時(shí),將發(fā)作很大漏磁場(chǎng),保證不了受檢表面和近表面滿足的磁場(chǎng)強(qiáng)度,然后下降查看靈敏度。所以本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩穿插磁軛四個(gè)磁極端面與受檢表面之間最大空位不跨過1.5㎜,最大行走速度不跨過4m/min。 28.3.3 磁懸液的施加應(yīng)符合下列規(guī)矩: a) 磁懸液濃度應(yīng)符合27.3.3的規(guī)矩。 b) 受檢表面先被磁懸液超卓地濕潤(rùn)后,才可施加磁懸液。 c) 磁懸液的施加可選用噴、澆方法,不行選用刷涂法。不管選用哪種方法,均不應(yīng)使查看面上磁懸液的流速過快。 d) 磁懸液必須在通電時(shí)間內(nèi)施加結(jié)束,通電時(shí)間宜為1~3s。為保證磁化作用應(yīng)起碼重復(fù)磁化兩次,停施磁懸液起碼1s后才可中止磁化。已構(gòu)成的磁痕不得被活動(dòng)著的磁懸液所損壞。 磁懸液對(duì)受檢表面的濕潤(rùn)程度、磁懸液的施加方法與時(shí)機(jī)均對(duì)磁粉查看質(zhì)量影響很大。因此,本標(biāo)準(zhǔn)保留了原標(biāo)準(zhǔn)此有些的規(guī)矩。對(duì)熒光磁懸液的施加次第應(yīng)自上而下進(jìn)行,以防止查詢布景受污染。 28.3.4 磁痕的查詢 磁痕的查詢應(yīng)在磁痕構(gòu)成后立刻進(jìn)行。 a) 非熒光磁粉查看時(shí),磁痕的查詢應(yīng)在可見光下進(jìn)行,工件受檢表面處可見光照度應(yīng)不小于1000lx;當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)選用便攜式設(shè)備查看,因?yàn)闂l件所限無法滿足時(shí),可見光照度可以恰當(dāng)下降,但不得低于500lx。 熒光磁粉查看時(shí),黑光燈的輻照度和波長(zhǎng)應(yīng)滿足27.1.3的懇求。磁痕的查詢應(yīng)在較暗的環(huán)境里進(jìn)行,其可見光照度應(yīng)不大于20lx。 b) 當(dāng)辯認(rèn)纖細(xì)短少磁痕時(shí),運(yùn)用5~10倍放大鏡進(jìn)行查詢。 磁痕閃現(xiàn)的查詢與分析辨別受查詢環(huán)境和條件的影響很大,因此本條對(duì)磁痕閃現(xiàn)的查詢條件作出了規(guī)矩。 原標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩非熒光磁粉查看時(shí),工件受檢表面處可見光照度應(yīng)不小于500lx,而本標(biāo)準(zhǔn)提高到1000lx。一同規(guī)矩:當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)條件所限無法滿足時(shí),可見光照度可以恰當(dāng)下降,但不得低于500lx。 29 復(fù)驗(yàn) 29.1 當(dāng)出現(xiàn)下列情況之一時(shí),應(yīng)進(jìn)行復(fù)驗(yàn): a) 查看結(jié)束時(shí),用標(biāo)準(zhǔn)試片驗(yàn)證查看靈敏度不符合懇求; b) 發(fā)現(xiàn)查看過程中操作方法有誤; c) 對(duì)查看作用有爭(zhēng)議; d) 有其它需要。 29.2 復(fù)驗(yàn)應(yīng)按第28章的懇求進(jìn)行。 本章保留了原標(biāo)準(zhǔn)的定見。 對(duì)在啥情況下需要復(fù)驗(yàn)和復(fù)驗(yàn)的技術(shù)懇求等都作了清楚的規(guī)矩,使標(biāo)準(zhǔn)愈加完善。 查看結(jié)束時(shí),查看人員運(yùn)用靈敏度試片對(duì)前面的查看作用進(jìn)行驗(yàn)證。當(dāng)電源電壓不堅(jiān)決較大,設(shè)備出現(xiàn)缺陷時(shí),使磁軛提升力下降,致使查看靈敏度下降,驗(yàn)證時(shí)靈敏度試片上的人工缺陷磁痕閃現(xiàn)不清楚或不閃現(xiàn),則應(yīng)對(duì)在此之前的查看部位進(jìn)行復(fù)驗(yàn)。查看人員自個(gè)或被質(zhì)量監(jiān)督人員查看時(shí),發(fā)現(xiàn)其未按本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩的操作方法作業(yè),則應(yīng)對(duì)在此之前的一切查看部位進(jìn)行復(fù)驗(yàn)。 30 查驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn) 30.1 磁痕的分類與記載 30.1.1 磁痕的分類 a) 磁痕閃現(xiàn)分為有關(guān)閃現(xiàn)、非有關(guān)閃現(xiàn)、偽閃現(xiàn)。非有關(guān)閃現(xiàn)和偽閃現(xiàn)不作斷定。 1)有關(guān)閃現(xiàn) 由短少發(fā)作的磁痕稱為有關(guān)閃現(xiàn)。 2)非有關(guān)閃現(xiàn)
72 e) 黑光輻照計(jì); f) 毫特斯拉計(jì)。 為保證磁粉檢查作業(yè)的順利進(jìn)行和檢查作業(yè)質(zhì)量,此條所列的輔佐器材對(duì)檢查方法和檢查標(biāo)準(zhǔn)的挑選及檢查靈敏度的查驗(yàn),磁懸液的濃度測(cè)定,磁痕閃現(xiàn)的查詢與分析等都十分首要,故保存此條款。 27.3 磁粉、載液及磁懸液 27.3.1 磁粉 磁粉應(yīng)具有高導(dǎo)磁率、低矯頑力和低剩磁,并與被檢工件表面色彩有較高的對(duì)比度。磁粉粒度和功用的其他懇求應(yīng)符合JB/T6063的規(guī)矩。 27.3.2 載液 載液一般選用水。 27.3.3 磁懸液 a) 磁懸液使用水作為懈怠前語,并應(yīng)參與恰當(dāng)?shù)姆冷P劑和表面活性劑。磁懸液的粘度應(yīng)控制在5000~20000Pa.s (25℃) 。磁懸液可選用磁膏制作。 b) 磁懸液濃度應(yīng)根據(jù)磁粉種類、粒度、施加方法和被檢表面情況等因歷來判定。一般情況下,磁懸液濃度方案應(yīng)符合表30的規(guī)矩。用磁膏配備磁懸液的濃度按磁膏的運(yùn)用說明書進(jìn)行。 表30 磁懸液濃度 磁粉類型 配備濃度(g/l) 堆積濃度(ml/100ml) 非熒光磁粉 10~25 1.2~2.4 熒光磁粉 0.5~3.0 0.1~0.4 c) 磁懸液濃度的測(cè)定方法 測(cè)定前應(yīng)將磁懸液充沛攪拌,攪拌時(shí)間不得少于30min,再將100ml磁懸液寫入磁懸液濃度堆積管中,連續(xù)堆積30min后,查詢?cè)嚬艿撞慷逊e物的體積。 4 熒光磁懸液制作后宜在24h內(nèi)用完。 (1)磁粉的導(dǎo)磁率和剩磁性,磁粉的粒度和均勻性及與受檢表面的對(duì)比度,對(duì)磁粉檢查靈敏度的影響很大,所以本標(biāo)準(zhǔn)參照J(rèn)B4730的有關(guān)規(guī)矩,對(duì)磁粉作出懇求。 (2)一般情況下,現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)時(shí)磁懸液無法回收運(yùn)用。為了下降檢查本錢,本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩磁懸液用加有添加劑的水作為載液,而不用油介質(zhì)。用磁膏制作磁懸液簡(jiǎn)便易行,在保證本標(biāo)準(zhǔn)懇求的各項(xiàng)技術(shù)方針及檢查靈敏度等條件下,引薦運(yùn)用磁膏。 (3)對(duì)磁懸液濃度的判定方法仍選用g/l為單位,其要素在于:在現(xiàn)場(chǎng)磁粉檢查中,絕大有些磁懸液均是一次性運(yùn)用,若用體積堆積法來判定磁懸液濃度則恰當(dāng)費(fèi)事。一起,因?yàn)榇欧塾昧坎磺宄谱鞔艖乙阂话阋馁M(fèi)很長(zhǎng)時(shí)間才調(diào)抵達(dá)標(biāo)準(zhǔn)懇求,因此本標(biāo)準(zhǔn)參看JB4730和《鋼材磁粉探傷查驗(yàn)方法及缺點(diǎn)磁痕的等級(jí)分類》及JIS G 0565有關(guān)內(nèi)容,用g/l的單位來標(biāo)明磁懸液濃度,以使磁懸液的制作簡(jiǎn)略適用。制作的非熒光磁懸液或許因?yàn)槟撤N要素此不能一次用完,剩余磁懸液過一段時(shí)間若繼續(xù)運(yùn)用,應(yīng)檢查其濃度。本標(biāo)準(zhǔn)參照《磁粉查驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)引薦操作作法》ASME SE-709中測(cè)定磁懸液堆積值的方法規(guī)矩了查驗(yàn)磁懸液濃度的方法。 磁懸液堆積值,關(guān)于100ml非熒光磁懸液,應(yīng)在1.2ml~2.4ml的方案內(nèi);關(guān)于100ml熒光磁懸液,應(yīng)在0.1ml~0.4ml的方案內(nèi);這與JB4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩的一樣。 27.4校驗(yàn) 27.4.1 磁軛提升力的校驗(yàn) 電磁軛的提升力應(yīng)每年校準(zhǔn)一次,設(shè)備遭到損壞或進(jìn)行嚴(yán)峻修補(bǔ)后應(yīng)從頭校準(zhǔn)。假定設(shè)備連續(xù)運(yùn)用1年或更長(zhǎng)時(shí)間,應(yīng)在運(yùn)用前校準(zhǔn)。
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