無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng)
概述:[中介]PV-1000系列無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng)為太陽能/光伏硅片及其他材料提供快速、多通道的厚度、(總厚度變化)TTV、翹曲及無接觸電阻率測量功能。并提供基于TCP/IP的數(shù)據(jù)傳輸接口及基于Windows的控
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肖宗鏞
 
PV-1000系列無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng)為太陽能/光伏硅片及其他材料提供快速、多通道的厚度、(總厚度變化)TTV、翹曲及無接觸電阻率測量功能。并提供基于TCP/IP的數(shù)據(jù)傳輸接口及基于Windows的控制軟件,用以進(jìn)行在線及離線數(shù)據(jù)管理功能。
無接觸硅片綜合測試系統(tǒng)-產(chǎn)品特點(diǎn)
■ 使用MTI Instruments獨(dú)有的推/拉電容探針技術(shù)
■ 每套系統(tǒng)提供最多三個(gè)測量通道
■ 可進(jìn)行最大、最小、平均厚度測量和TTV測量
■ 可進(jìn)行翹曲度測量(需要3探頭)
■ 用激光傳感器進(jìn)行線鋸方向和深度監(jiān)視(可選)
■ 集成數(shù)據(jù)采集和電氣控制系統(tǒng)
■ 為工廠測量提供快速以太網(wǎng)通訊接口,速率為每秒5片
■ 可增加的直線厚度掃描數(shù)量
■ 與現(xiàn)有的硅片處理設(shè)備有數(shù)字I/O接口
■ 基于Windows的控制軟件提供離線和在線的數(shù)據(jù)監(jiān)控
■ 提供標(biāo)準(zhǔn)及客戶定制的探頭
■ 提供基于Windows的動(dòng)態(tài)鏈接庫用于與控制電腦集成
■ 用渦電流法測量硅片電阻率
無接觸硅片綜合測試系統(tǒng)-技術(shù)指標(biāo)
■  晶圓硅片測試尺寸:50mm- 300mm.
■   厚度測試范圍:1.7mm,可擴(kuò)展到2.5mm.
■   厚度測試精度:+/-0.25um
■   厚度重復(fù)性精度:0.050um
■   測量點(diǎn)直徑:8mm
■  TTV 測試精度:  +/-0.05um
■  TTV重復(fù)性精度: 0.050um
■   彎曲度測試范圍: +/-500um [+/-850um]
■   彎曲度測試精度: +/-2.0um
■   彎曲度重復(fù)性精度: 0.750um
■ 電阻率測量范圍:5-2000ohm/sq(0.1-40ohm-cm)
■ 電阻率測量精度:2%
■ 電阻率測量重復(fù)精度:1%
■ 晶圓硅片類型:單晶或多晶硅
■ 材料:Si,GaAs,InP,Ge等幾乎所有半導(dǎo)體材料
■ 可用在:切片后、磨片前、后,蝕刻,拋光以及出廠、入廠質(zhì)量檢測等
■ 平面/缺口:所有的半導(dǎo)體標(biāo)準(zhǔn)平面或缺口
■ 硅片安裝:裸片,藍(lán)寶石/石英基底,黏膠帶
■ 連續(xù)5點(diǎn)測量
應(yīng)用范圍
> 切片
>>線鋸設(shè)置
>>>厚度
    >>>總厚度變化TTV
     >>監(jiān)測
>>>導(dǎo)線槽
>>>刀片更換
>磨片/刻蝕和拋光
>> 過程監(jiān)控
>> 厚度
>>總厚度變化TTV
>> 材料去除率
>> 彎曲度
>> 翹曲度
>> 平整度
> 研磨
>> 材料去除率
> 最終檢測
>> 抽檢或全檢
>>  終檢厚度[本信息來自于今日推薦網(wǎng)]
PV-1000系列無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng)為太陽能/光伏硅片及其他材料提供快速、多通道的厚度、(總厚度變化)TTV、翹曲及無接觸電阻率測量功能。并提供基于TCP/IP的數(shù)據(jù)傳輸接口及基于Windows的控制軟件,用以進(jìn)行在線及離線數(shù)據(jù)管理功能。
無接觸硅片綜合測試系統(tǒng)-產(chǎn)品特點(diǎn)
■ 使用MTI Instruments獨(dú)有的推/拉電容探針技術(shù)
■ 每套系統(tǒng)提供最多三個(gè)測量通道
■ 可進(jìn)行最大、最小、平均厚度測量和TTV測量
■ 可進(jìn)行翹曲度測量(需要3探頭)
■ 用激光傳感器進(jìn)行線鋸方向和深度監(jiān)視(可選)
■ 集成數(shù)據(jù)采集和電氣控制系統(tǒng)
■ 為工廠測量提供快速以太網(wǎng)通訊接口,速率為每秒5片
■ 可增加的直線厚度掃描數(shù)量
■ 與現(xiàn)有的硅片處理設(shè)備有數(shù)字I/O接口
■ 基于Windows的控制軟件提供離線和在線的數(shù)據(jù)監(jiān)控
■ 提供標(biāo)準(zhǔn)及客戶定制的探頭
■ 提供基于Windows的動(dòng)態(tài)鏈接庫用于與控制電腦集成
■ 用渦電流法測量硅片電阻率
無接觸硅片綜合測試系統(tǒng)-技術(shù)指標(biāo)
■  晶圓硅片測試尺寸:50mm- 300mm.
■   厚度測試范圍:1.7mm,可擴(kuò)展到2.5mm.
■   厚度測試精度:+/-0.25um
■   厚度重復(fù)性精度:0.050um
■   測量點(diǎn)直徑:8mm
■  TTV 測試精度:  +/-0.05um
■  TTV重復(fù)性精度: 0.050um
■   彎曲度測試范圍: +/-500um [+/-850um]
■   彎曲度測試精度: +/-2.0um
■   彎曲度重復(fù)性精度: 0.750um
■ 電阻率測量范圍:5-2000ohm/sq(0.1-40ohm-cm)
■ 電阻率測量精度:2%
■ 電阻率測量重復(fù)精度:1%
■ 晶圓硅片類型:單晶或多晶硅
■ 材料:Si,GaAs,InP,Ge等幾乎所有半導(dǎo)體材料
■ 可用在:切片后、磨片前、后,蝕刻,拋光以及出廠、入廠質(zhì)量檢測等
■ 平面/缺口:所有的半導(dǎo)體標(biāo)準(zhǔn)平面或缺口
■ 硅片安裝:裸片,藍(lán)寶石/石英基底,黏膠帶
■ 連續(xù)5點(diǎn)測量
應(yīng)用范圍
> 切片
>>線鋸設(shè)置
>>>厚度
    >>>總厚度變化TTV
     >>監(jiān)測
>>>導(dǎo)線槽
>>>刀片更換
>磨片/刻蝕和拋光
>> 過程監(jiān)控
>> 厚度
>>總厚度變化TTV
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