掃描電子顯微鏡檢測(cè) 

概述: 【儀器簡(jiǎn)介】 掃描電子顯微鏡的制造是依據(jù)電子與物質(zhì)的相互作用。當(dāng)一束高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí),被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線
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  • 【儀器簡(jiǎn)介】

    掃描電子顯微鏡的制造是依據(jù)電子與物質(zhì)的相互作用。當(dāng)一束高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí),被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續(xù)譜X射線、背散射電子、透射電子,以及在可見、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射。同時(shí),也可產(chǎn)生電子-空穴對(duì)、晶格振動(dòng) (聲子)、電子振蕩 (等離子體)。原則上講,利用電子和物質(zhì)的相互作用,可以獲取被測(cè)樣品本身的各種物理、化學(xué)性質(zhì)的信息,如形貌、組成、晶體結(jié)構(gòu)、電子結(jié)構(gòu)和內(nèi)部電場(chǎng)或磁場(chǎng)等等。

    【特點(diǎn)】1. 強(qiáng)大的電子光學(xué)系統(tǒng),簡(jiǎn)單操作 2. 高解析度 3.全自動(dòng)電子槍  4. 多圖顯示模式 5. 簡(jiǎn)單易懂的操作介面及功能表 6. 可變焦聚光鏡修改 7. 全對(duì)中樣品臺(tái) 8. 低真空SEM 

    【技術(shù)參數(shù)】

    放大倍數(shù):5-300,000倍 

    解析度:高真空:3nm(30KV)/8nm(3KV)/15nm(1KV) 低真空:4.0nm(30KV) 

    電子槍:全自動(dòng),亦可手動(dòng)調(diào)整 

    樣品臺(tái):大全對(duì)中型X=80mm,Y=40mm,Z=5到48mm,傾斜:-10 - +90度,旋轉(zhuǎn):360度 

    燈絲:工廠預(yù)對(duì)中燈絲(鎢) 

    圖像模式:二次電子像,成份像,拓?fù)湎瘢幱跋?nbsp;

    加速電壓:5-30KV 

    聚光鏡:可變焦聚光鏡 物鏡:超級(jí)錐形物鏡 物鏡光闌:3檔,X-Y可細(xì)調(diào)

    電位移:±50微米 自動(dòng)功能:聚焦,亮度,襯度,消像散 

    最大樣品:直徑:150mm 樣品交換:抽拉式樣品臺(tái) 

    真空系統(tǒng):全自動(dòng)擴(kuò)散泵DP。分子泵TMP

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